华诺mask掩模版,不锈钢精密电极蒸镀光罩 MASK
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加工周期 | 最快12小时出货 | 掩膜板材质 | 不锈钢、钽片、各种薄膜等可按客户要求定制 |
掩膜版别名 | 掩膜板、光罩、mask、FMM | 掩膜版加工精度 | 最小10um |
掩膜版尺寸 | 最大600*600mm | 掩膜版材质厚度 | 最薄加工厚度0.03mm |
特色要求 | 需要和客服具体沟通 |
华诺mask掩模版,不锈钢精密电极蒸镀光罩 MASK
掩膜版切割主要应用行业有LED芯片制造,触摸屏,LCD,消费类电子,半导体,MEMS,照明,等行业,以及科研、航天航空、电子、机械、光学、石油、化工、汽车、工艺品等行业。
激光加工掩膜版主要有以下特的优点:
1、生产效率高,质量可靠,经济效益。
2、激光加工过程中无“”磨损,无“切削力”作用于工件。
3、可以对多种金属、非金属加工,特别是可以加工高硬度、高脆性及高熔点的材料。
4、激光束易于导向、聚焦实现作各方向变换,极易与数控系统配合、对复杂工件进行加工,因此它是一种极为灵活的加工方法。
5、无接触加工,对工件无直接冲击。
6、热影响区小,工件热变形小,后续加工量小。
光刻掩膜版(又称光罩,英文为Mask Reticle),简称掩膜版,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得,常用加工设备为直写式光刻设备,如激光直写光刻机、电子束光刻机等。
掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成电路)、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微机电系统)等。
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